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半導体前工程のイエロールームに10年余。ものすごく狭いのに果てしなく広大な生産技術のあるあるを言語化してみるテスト。たまに棚卸してnote化してます↓

Joined February 2022
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工場におけるボトルネック、についての私考です。「ボトルネックは動くのだ」という言葉に惑わされないで、というお話です。 仮の話として半導体前工程ラインのキャパ設計をしてみる。話を思いっきりシンプルにするために ・単一製品(全30層) ・20ロット(x25枚)/日 を作るラインがほしいとする(1/n
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ゲーム始めた初手で「手動の追加エッチングを25枚全選択のまま実行」とか解像度高くて草、通り越して鬱_| ̄|○
台湾の同僚に教えてもらった fab24hr っていう無料の半導体工場ゲーム, 細部まで再現されてて草. 完全に中の人が作ってるやろ fab24hr.com/ja/?lang=ja&utm_…
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メープルシロップだけを蒸留たメープルウィスキーってのが極甘で美味いんだよなあ…🥃
SEMICON WESTで貰ったメープルシロップ、どないしよう・・ポヨ🍁
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月面でゴルフするにはgが足りないよ..
Rapidus keeps marching forward on a fraction of what the old guard spends. I stopped doubting them after they actually groomed a back nine on the roof of their fab. A few weeks ago they said their lunar chip foundry was "no joke." Hmm.. Coincidence? Wouldn't it be a hoot if Terafab/SpaceX were already talking to IBM and Rapidus about moon chips? I would eat my hat.
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アリゾナTSMCはおろか菊陽町JASMに近寄るのも恐れ多い私に、いまできることと言えばステーキマニア 光の森店で「あか牛リブロースステーキランチ」を食すことくらいだったポヨ。美味しゅうございました
今回、少し時間があったのでTSMC Fab21の周りをぐるりと回ったポヨ 白バイの方が見回っており写真を撮影できる感じではなかったポヨ💦 P2は外観は完成、P3,P4も杭打ちは終わり鉄骨を組み立てている状態だったポヨ
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リソグラフィエンジニアの戯言 retweeted
おついも〜🍠 ステージの様子🎤 株式会社マルマエ様のキャラクターのマルミルちゃんと一緒にステージに立ったよ💚
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早寝早起きが過ぎる(お大事にされてください)
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人生最長Youtube視聴 これはもはやBUMPの教科書だ
BUMP OF CHICKEN全曲歌枠 12時間137曲 ありがとうございました!!!!!!! BUMP OF CHICKENと同じ時代に生きられてることを本当に幸せに思います…… 長時間 聴いてくれてありがとう〜!!!!! 🔻セットリスト
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蛍石がないと、屈折レンズ系使ってるリソ屋はおまんま食い上げなのです(;;) digital-sol.nikon.com/produc…
『VIVANT』に登場する「フローライト」が気になってチャッピーとGoogleで調べたら、紫外線あてると紫色に蛍光する鉱石だった。図鑑でみたことあるやつ✨🟣 半導体に不可欠な材料というわけではなさそうだけど、フッ酸になったりするみたい。へー。
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講演の帰り際、東北大学広報の方から「キラキラ研一」いただきました。 これはおそらく… @masakodenki さん、ありがとうございました!
研一または研一ぬいってなんだろうと思ったらオフィシャルキャラでありましたか(かわいい)
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9月吉日、東北大学 田中秀治ラボを見学、大変貴重かつ濃密な機会をいただきました。見学したのは工学研究科機械系キャンパス、そして西澤潤一記念研究センター。5,000平米にもわたるクリーンルームは確実に「生きている」と感じました(つづく mems.mech.tohoku.ac.jp/devel…
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装置ベンダーの企業変遷、渡り歩いた中古品市場、カスタマイズ、そして「いまここ(東北大学の一角)にあり、研究者が稼働させていること。この語りをエピソード止まりにしていいだろうか。これはノウハウです。案内いただいた研究者の方は貴重な語り部でした。はていま民間企業に何人いるか(つづく
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見学後、季節外れの夏日、メインディッシュ講演の出席に預かることができました。 世に溢れる情報に自分のポジションとることは大事だ。 何十億のSNS溢れる世界、扇動をとるか、一次情報で詰めるか、抑制した静観するか。いまの私は後者に寄っている。みなさんはどうか。生きてる実感あるか?(終
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自分ではない誰かの歴史を当人の文献を頼りつつ文章に起こす作業は、思った以上に追体験でこそはゆい、たとえそれが偉人であっても
院生の時代 彼のPROLITHに 触発されて 初期的な光学系の MTFからウェハ上 の結像一連工程を プログラムした 記憶がある このような人だとは 知らなんだ
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High NA EUVの縮小投影倍率問題で必須となりつつあるStitching(マスクパターンの継ぎ接ぎ)技術は単にステージ駆動精度に頼らない形で進化しております。微細レイヤーの橋渡しとして上層レイヤーでStitchして繋ぐ(Block and Route)、など成熟してきました。IPブロック配置自由度との競争ですね。
ASML High NA機についておさらいメモ ◽️プラットフォーム名  NA0.33 = NXE  NA0.55 = EXE ◽️縮小倍率  ミラー大口径化に伴い露光フィールド制約が発生。横x4、縦x8の投影倍率にする必要性から当初レチクルを従来の6inch角から拡大させる案もあったが、縦サイズを半分にすることで落ち着いた。→
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でもね あらゆるプロセスマージンを極限に確保するには、マスクもパネルも、もちろんウェーハだって、シンメトリー形状がベストと思うんだ.. やむなく崩した不均衡をカバーする技術工数(代償)は極めて大きく、同様な研究で停滞が生じた時代もあ〜ったねと、いつか話せる気がくるさ
ガラスマスクを扱ってきた当事者として、これまでの正方形(square)か、長方形(asymmetric rectangle)かどちらを選択すべきが重要だと感じています。目前の面積あたりのコストか、長期的な製造プロセス安定性と取り扱いの耐久性か、どちらがメリットが大きいか?
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それは果たしてStich技術が必要な解像度の話でしょうか?
High-NA halves the exposure field, cutting the maximum die size per shot in half. For now, stitch two half fields into one die on today's 6" masks. Long term, 6x12 inch masks are the answer to recover a full die with no seam. Of course that requires ecosystem alignment, which $ASML and $INTC are spearheading.
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